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NOVIDADES
A dopagem em semicondutores ocorre pela adição controlada de átomos como impureza, o que leva a uma variação importante de suas propriedades eletrônicas e ópticas. Recente colaboração de cientistas da University of Pennsylvania e NIST (ambas instituições nos Estados Unidos) demonstrou, pela primeira vez, um análogo de dopagem único em nanoescala. Em particular, os cristais em nanoescala são criados pela organização de nanopartículas em arranjos de empacotamento compacto (os chamados ‘superlattices’ de nanopartículas). Neste trabalho a montagem é realizada com quantidades controladas de nanopartículas como "impureza" as quais são diferentes das que são utilizadas para formar o cristal hospedeiro.  a) Imagem de microscopia eletrônica de transmissão do ‘superlattice’ dopado com nanopartículas. b) Padrão de espalhamento de raio-X a baixo ângulo (SAXS) do ‘superlattice’. Os picos bem definidos surgem por causa da excelente ordenação do cristal. c) Este trabalho é um análogo em nanoescala de um semicondutor dopado, peça-chave da indústria microeletrônica. Créditos: UP e NIST
Esta capacidade de modular racionalmente as propriedades dos ‘superlattices’ será crucial para futuras aplicações de materiais ópticos e eletrônicos. Como colocado a dopagem com nanopartículas de ouro aumentou a condutividade dos filmes de nanopartículas de seleneto de chumbo em mais de 6 ordens de grandeza. Tal controle sobre a introdução de nanopartículas em "superlattices" abre possibilidades para a dopagem com outros nanomateriais, como por exemplo, nanopartículas magnéticas e catalíticas. Brookhaven National Laboratory (Tradução - MBS). |
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